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Pioneer 180 PLD System脉冲激光沉积系统
沉积纳米级薄膜。•氧化膜沉积的氧相容性。•升级:离子辅助PLD,组合型PLD,目标衬底负载锁定。•其他沉积源:脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射,直流离子枪。•与XPS /ARPES特高压集群工具
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脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD
聚合物薄膜的沉积;在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射和直流离子源;Load-lockable衬底阶段;与XPS分析系统集成,直接将晶片从PLD系统转移到分析系统
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脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
,过程压力,系统泵和激光触发。产品特点独立的交钥匙PLD系统。外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。纳米级薄膜的沉积。外延氧化膜沉积的可编程氧兼容加热器。自动多目标旋转多层沉积。全干式真空泵组。通过
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团引入的,以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV (5-6 eV)的传统PLD技术可能不适用于这种情况,因为光化学
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组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System
特点独立交钥匙PLD系统PLD-CCS 三元连续组分扩散无退火和掩模在“真正的”沉积条件下(比如800℃,500mTorr)薄膜成长Wafer尺寸:标准型直径2”(4” 和6”需客户定制)外延
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高级脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced PLD System
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大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems
产品简介Neocera大尺寸PLD系统用于在各种衬底上沉积各种高质量的薄膜,晶圆(wafer)直径可达8 "(200毫米)。基片旋转结合激光扫描提供整个晶圆区域的厚度均匀性。激光束扫描附件采用
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离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System
离子辅助沉积PLD已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。 特点独立的交钥匙离子束辅助
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PLD 脉冲激光沉积系统检漏专用氦质谱检漏仪
脉冲激光沉积系统 PLD 需要检漏原因PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄露, 是否有内部材料放气等因素对实现高真空及超高真空很关键. 因此需要对整个系统进行泄漏检测. 氦质谱检漏仪利用
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NBM microPLD 脉冲激光沉积系统
技术参数:1. 靶:数量6个,大小1-2英寸,被激光照射时可自动旋转,靶的选择可通过步进电机控制。2. 基板:采用适合于氧气环境铂金加热片,大小2英寸,加热温度可达1200摄氏度,温度差
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